光刻-刻蚀虚拟仿真实验的设计与实施

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［摘 要］ 对焦国家中国芯开发战略，自主设计开发光刻-刻蚀虚拟仿真实验。实验以芯片生产过程中的光刻-刻蚀工艺作为代表，通过虚拟仿真技术进行设备建模、光路模拟、微观粒子运动演示等，将无法触及的设备内部结构、复杂的光刻-刻蚀工艺影响、转瞬即逝的微观实验现象直观化展示给实验者，利用“练习模式”和“考试模式”让实验者充分开展实验探索，通过不同模拟情境激发学生学习兴趣。（剩余7063字）

试读结束

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