离子源对透镜防蓝光镀膜工艺的影响

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摘 要：此项研究基于物理气相沉积下的真空镀膜技术，可以有效实现防蓝光镜片镀膜工艺，采用高低折射率镀膜材料的搭配，在光谱分析测试设备中，有害蓝光波段（即可见光波长位于380～450nm）处，达到90%及以上反射的高反状态。改变真空室内离子源的使用条件，进而取得更好的防蓝光效果。研究表明，在开启霍尔离子源辅助，且电子束流在8A的情况下，可以增加防蓝光薄膜层的附着力和稳定性，薄膜的性质与辅助离子源和起始薄膜材料紧密相连。（剩余5513字）

试读结束

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