Si3N4基底表面粗糙度对HFCVD法制备金刚石薄膜摩擦学性能的影响

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关键词 氮化硅；表面粗糙度；热丝化学气相沉积；金刚石薄膜；耐磨性

中图分类号 TQ164；TQ174.1+2 文献标志码 A

文章编号 1006-852X（2023）05-0604-08

DOI 码 10.13394/j.cnki.jgszz.2022.0184

收稿日期 2022-11-03 修回日期 2022-11-26

氮化硅（Si3N4）工程陶瓷材料具有金属和复合材料无可比拟的高机械强度、高熔点、低热膨胀系数和抗腐蚀性能，广泛应用于各种密封部件、切削刀具、高速轴承等关键机械结构件，可以在其他金属材料和高分子材料无法胜任的严苛工况环境下工作[1-3]。（剩余5029字）