新型可见光活化的钒硅共掺杂 TiO2 涂层的合成及其抗菌性评价
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[摘要］目的：探讨钛表面电化学处理形成钒（V）和硅（Si）共掺杂 TiO2 涂层（V-Si TiO2 ）的最佳掺杂浓度，并评估其在可见光照射下的抗菌作用，阐明其可见光响应机制。方法：将医用纯钛片采用微弧氧化后进行高温煅烧，通过调整电解液中V和Si比例制备不同掺杂浓度的V-Si TiO2 涂层，实验分为 1V：10Si （V5Si50）组、 2V：10Si （V10Si50）组和 3V：10Si （V15Si50）组，另设对照组（仅包含细胞培养基），结合表面形态表现、离子释放、光催化能力及生物相容性等评估筛选出最佳掺杂浓度，细胞计数试剂盒8（CCK-8）检测各组细胞增殖活性和细胞存活率。（剩余24627字）
