氧化铪基铁电隧道结隧穿电致电阻效应的理论研究

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摘 要:氧化铪基铁电隧道结因其与CMOS工艺存在良好的兼容性,在随机存储器领域具有巨大的应用潜力。利用Airy函数严格求解了TiN/HZO/Pt铁电隧道结的隧穿电致电阻问题。研究结果表明:在高偏压区域,隧穿电导和隧穿电致电阻效应随偏压和隧穿层厚度均出现振荡现象。物理上,该振荡现象来源于隧穿层中的入射电子波与隧穿层和右电极界面处的反射电子波产生的干涉效应。(剩余15260字)

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