低温水浴制备BiVO4光催化材料用于可见光降解RhB研究

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摘 要：N型半导体BiVO4是降解有机污染物最具应用前景的可见光光催化材料之一.然而，纯BiVO4由于光生电子-空穴对复合过快，载流子传输速率低等问题限制着其光催化能力.表面活性剂不仅可以调节BiVO4的形貌和粒径大小，还可以通过增大比表面积来增多反应活性位点，以提高光催化活性.本研究以十二烷基硫酸（剩余20254字）

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