暗花立式刻绘机改进设计研究

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摘  要：为提高现有暗花立式刻绘机暗花刻绘的精度，该文对其一些装置进行改进。原刻绘机的进给装置为同步带传动，因行程跨距较大，同步带较长，导致刻绘出来的暗花图案偏移或少刻，从而导致刻绘的暗花有误差，将其改进为齿轮齿条传动方式。原刻绘机的双导轨面为垂直排列方式，由于精度问题在刻绘过程中出现易卡死现象，将其改进为双导轨面为同一平面的排列方式。（剩余5038字）

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