基于核密度估计的键合系统高温贮存寿命预测

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摘 要:绝缘体上硅(SOI)器件在200~300 ℃高温下性能优异,但长期高温会导致引线键合可靠性下降。为研究长期高温对高可靠SOI器件键合系统的影响,以XX256HT型SOI静态存储器(SRAM)为研究对象,针对其中金-铝与铝-铝两种键合界面,开展了250,275,300 ℃高温贮存加速退化试验,对比研究两种键合点的键合拉力强度退化规律。(剩余9171字)

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