透明金属薄膜在电磁屏蔽中的应用
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摘 要 由于电磁辐射导致电子技术领域的信息安全问题备受关注，寻找降低电子设备运行时伴随的辐射的方法，是亟待解决的技术问题之一，本文对真空沉积法制备的透明金属薄膜在电子元器件显示器屏幕上的电磁屏蔽效能进行了理论分析与试验验证，讨论了金属薄膜材质及单层与多层金属薄膜网状结构对电磁屏蔽效能的影响，通过实验数据分析可知，由具有高导磁率和低电阻率的金属制成的给定厚度的单层金属薄膜屏蔽层具有最大的磁场屏蔽效能，即电子结构元件屏蔽涂层的最佳选择是厚度为 30-50μm 的单层铝膜。（剩余6708字）