磁流变抛光流场对光学元件凹面的压力形成机制研究

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摘 要：压力场的大小受到光学元件的凹面形状及面积大小的影响。为了研究凹面的压力场形成，首先建立抛光的光学元件模型，对凹面的压力进行计算分析；其次通过改变光学元件凹面的曲率半径大小、改变抛光轮的转速、改变相同曲率半径的光学元件浸入磁流变液中的角度，进行凹面压力计算。分析发现，曲率半径对凹面的压力影响不大，不同曲率半径的凹面在磁流变抛光流场中的压力分布类型相似；凹面的压力变化趋势先平缓减小，然后迅速减小，最后趋于平缓。（剩余9027字）

试读结束

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