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北京科技大学新材料技术研究院、北京材料基因工程高精尖创新中心研究团队设计了一种新型层状结构材料，采用一种简单的溶液外延生长方法，获得了超薄（低至1纳米）铋（Bi）氧（O）化物薄膜，薄膜稳定呈现出高宏观铁电性能。
原子尺度的高密度电子器件在未来科技发展中具有重要意义。其中，高质量原子尺度铁电外延薄膜的制备是超尺度、高密度电子器件发展的关键环节。（剩余314字）
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新方法制备高宏观铁电性能薄膜
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