光电性能可调的TiN薄膜及在TOPCon太阳电池的应用

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摘 要：采用直流磁控溅射制备了光电性能可调的氮化钛（TiN）薄膜，TiN薄膜的透过率随沉积压强和氮气浓度升高而升高；电导率随溅射功率升高而升高、随沉积压强和氮气浓度升高而降低。TiN的可见光平均透过率为0%～60%，氮气浓度和沉积压强较低时制备的TiN薄膜具有优异的电导率（4000 S/cm）。将高电导率的TiN薄膜应用于隧穿氧化钝化接触太阳电池（TOPCon），改善了多晶硅层（Poly-Si）与银电极界面接触，提高了填充因子，为实现高效TOPCon太阳电池提供了有效途径。（剩余10086字）

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