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摘 要：本实验分别采用射频磁控溅射法和电子束蒸发法在普通玻璃衬底上制备ZnO薄膜样品，并对样品的外观形貌、微观形貌及结构、光电性能进行测试和表征。测试结果表明，磁控溅射制备的薄膜呈透明状，薄膜平整致密，晶粒比较大，缺陷浓度比较少，薄膜中晶粒沿ZnO（002）晶面择优取向生长，薄膜可见光区透过率达88.74%，但薄膜导电性能比较弱，且薄膜生长速率也比较小。（剩余7270字）
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制备方法对ZnO纳米薄膜微结构及光电性能的影响研究
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