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摘 要:【目的】为降低暗电流,改善器件性能,对不同的倍增层Si掺杂浓度在电场分布、暗电流和响应度等性能方面的影响进行探讨,以获得掺杂浓度的最优值。【方法】利用半导体仿真软件Silvaco-TCAD深入探讨了倍增层Si掺杂浓度对β-FeSi2/Si近红外探测器性能的影响规律。【结果】随着倍增层掺杂浓度的提升,倍增层内部电场强度峰值逐渐增加,暗电流密度与电容值也将相应提高,光响应度基本保持不变。(剩余9192字)
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倍增层Si浓度对β-FeSi2/Si红外探测器性能的影响研究
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