等离子体化学气相沉积工艺调控铜基-石墨烯复合 薄膜材料微结构及电学热学性能研究

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摘要：本文利用等离子体化学气相沉积PECVD（Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition）技术制备了铜基-石墨烯复合薄膜，通过X射线衍射及Raman光谱证实了低温合成的可行性. 同时，逐步研究压强、功率、气流量、基底温度等关键参数对沉积速率的影响，实现了对薄膜（剩余14037字）

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