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摘要: 本文通过第一性原理计算在GGA + U 框架下系统地研究了非磁性掺杂剂(Li)和磁性掺杂剂(V)以及相应的点缺陷(V O /V Sn )掺杂SnO 2 基稀磁半导体(DMS)的稳定性、电子结构、键合性质、磁性以及光学性质.(剩余22362字)
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非磁性/磁性掺杂剂对SnO2体系的性能调控
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