纯水介质下抛光单晶蓝宝石晶圆的反应去除机理

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摘要： 采用反应分子动力学模拟的方法，研究了水溶液下SiO2抛光蓝宝石过程中材料原子级别的反应去除机理，并结合抛光实验对比验证。结果表明：在反应过程中H2O分子会吸附在蓝宝石表面，与蓝宝石的Al原子成键，形成Al—H2O和Al—OH化学键，从而实现蓝宝石基体表面的“软化”，之后在磨粒机械作用下，工件的Al原子以Si-O-Al链的形式被去除。（剩余9236字）

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