氢化膜对钛表面电镀镀层结合的影响

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摘要：通过扫描电子显微镜（scanning electron microscope，SEM）、X 射线衍射仪（X-raydiffractometer，XRD）、能谱仪（energy dispersive spectrometer，EDS）研究了氢化膜对钛表面电镀镀层结合的影响。试验结果表明：钛经过HCl 和H2SO4 混合溶液的氢化处理，一方面可以实现钛基体上电镀镍铜，提高镀层结合强度，镀层结合强度最大值为9.6 MPa；但另一方面氢化形成蜂窝状多孔的氢化膜会限制镀层结合强度。（剩余4633字）

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