高频铜箔的专利技术分析

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摘 要：【目的】重点分析高频铜箔的技术，对其申请状况、技术发展脉络和研发路线进行剖析，以掌握高频铜箔专利技术的发展情况。【方法】通过专利分析，重点研究高频铜箔专利申请的变化趋势、申请人区域分布、申请人排名、专利申请的技术构成等。【结果】日本、中国、美国、韩国是高频覆铜板铜箔专利申请的主要来源国/地区。（剩余4521字）

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