国产光刻机官宣成功半导体产业链再次得到提振

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近日，工信部公布了《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》，包含氟化氪光刻机和氟化氩光刻机。其中，氟化氩光刻机光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻精度≤8nm。

国产光刻机取得突破半导体自主可控信心强化

近年来，国产替代突破一直是半导体芯片行业的重要主线。此前2023年，荷兰政府就已颁布先进半导体设备的出口管制条例，限制ASML最先进的几款浸润式DUV光刻机，需要政府许可证才能发运。（剩余1550字）

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