光刻机龙头的沉浮变迁（上）
光刻技术的诞生比芯片还要早，1955年，贝尔实验室便实现了在硅片上用光刻加工电子元器件的方法。
芯片诞生之初，晶体管的尺寸还比较大，光刻没有多少技术含量。当时的半导体公司通常自己设计生产芯片的工艺装备，比如早期的仙童甚至拿电影镜头来进行光刻。英特尔也有自己的光刻机部门，买一些零部件便能自己组装。
走向专业化，群雄逐鹿
1961年，美国GCA造出了第一台重复曝光光刻机，能够定位到1微米的精度，远超当时25微米的精度。（剩余3114字）
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