超快激光在多晶硅还原炉的应用技术优化研究

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摘 要：针对电子级多晶硅还原炉底盘附着的残留物，研究超快激光技术在电子级多晶硅还原炉的应用。通过超快激光电子级多晶硅还原炉清洗设备结构，分析其清洗电子级多晶硅还原炉设备过程。选取试验材料、试剂和设备后，分别制备含有无定形硅粉、氯硅烷水解物、二氧化硅粉尘、甲基硅油油脂、多晶硅颗粒等污染物的基板作为还原炉污染样本；并以制备的还原炉污染样本为基础，设定初始条件和边界条件后，展开电子级多晶硅还原炉污染试件清洗试验。（剩余6438字）

试读结束

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