管式PECVD工艺对“SE+PERC”晶体硅太阳电池镀膜均匀性的影响及改善研究

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摘要：针对在“SE+PERC”晶体硅太阳电池制备过程中，采用管式等离子体增强化学气相沉积（PECVD）工艺沉积正面钝化介质膜后，硅片正面会出现角部发红色差，即镀膜均匀性异常的问题，通过实验，对硅片厚度、工器具状态、背面膜层结构、正面钝化介质膜沉积工艺等影响因素对硅片正面角部发红色差的影响分别进行分析和讨论，并提出解决方案。（剩余10136字）

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