氧化钨忆阻器的制备及其神经突触特性
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摘要： 为了实现忆阻器在神经网络中的应用，采用磁控溅射技术制备模拟型氧化钨忆阻器； 在氧化铟锡导电玻璃衬底上依次生长氧化钨薄膜和银薄膜，将氧化钨作为阻变层，氧化铟锡作为底电极，银作为顶电极； 采用扫描电子显微镜和系统数字源表表征制备的氧化钨忆阻器的结构、 电学性能和导通机制。结果表明： 制备的氧化钨忆阻器具有优异的突触性能，阻变机制由银导电细丝为主导； 将制备的忆阻器用于神经网络仿真，准确率达到99.11%，与中央处理器的准确率99.31%相近，能够应用于神经形态的计算。（剩余13491字）