蒸发硫量对退火前驱膜制备CdS薄膜性能的影响

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摘 要：为了探索一种低成本、高质量CdS薄膜的制备方法并拓展其应用场景，以Cd金属靶材和硫粉分别作为溅射和蒸发源，采用溅射-蒸发-溅射（SES）方法在石英玻璃衬底上沉积前驱膜，随后在Ar气氛中、400 ℃下退火1 h，成功制备了CdS薄膜。以XRD、SEM、EDS、紫外-可见分光光度计等表征方法，系统研究了蒸发硫粉质量对CdS薄膜性能的影响。（剩余15011字）

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