溅射用难熔金属靶材的制备及再制造工艺研究进展

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中图分类号：TB34

文献标志码：A

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溅射靶材作为在特定工艺条件下通过磁控溅射、真空离子镀或蒸发镀膜等技术在衬底上形成各种功能薄膜的关键材料，其重要性日益凸显[1-2]。2013—2021年期间，全球溅射靶材市场规模实现了从76亿美元到213亿美元的飞跃，年复合增长率达到 11% 。在这一增长趋势中，中国溅射靶材市场规模达到约30亿美元，成为全球最大的溅射靶材消费市场之一[1，3-4]。（剩余27850字）

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