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直线加速器可为极紫外光刻技术提供强大的动力。
英特尔、三星、台积电以及日本即将建造的先进晶圆代工厂速芯(Rapidus)正各自为营,准备在每平方毫米的硅片中塞入越来越多的晶体管,但这些企业有一个共同点:支撑它们开展研发制造的极紫外光刻技术(EUV)极其复杂、昂贵,且运营成本极高。其主要原因在于,该系统所使用的13.5纳米光源需要通过目前世界上最强大的商业激光器轰击飞行中的熔融锡滴来产生,而后者要求高精度和高成本。(剩余4507字)
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摩尔定律是否会在粒子加速器中找到未来?
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