基于MRI图像后处理技术的双重病理致颞叶癫痫患者脑区结构特征分析

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［摘要］ 目的

基于磁共振成像（MRI）后处理技术，对双重病理（DP）致耐药性颞叶癫痫（TLE）患者脑区结构变化特征进行自动精细脑分割及脑区数据定量分析。

方法 选择2017年1月—2023年12月我院DP致TLE患者35例设为TLE-DP组，并选择同期32例健康成年人为对照组。（剩余11916字）

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