溅射功率对磁控溅射钽铬合金薄膜的影响

  • 打印
  • 收藏
收藏成功
微博 QQ空间 微信


打开文本图片集

摘      要： 利用双靶磁控溅射技术，通过固定铬靶的直流功率，改变钽靶的射频功率，在CrNi3MoVA钢表面制备钽铬合金薄膜，探究溅射功率对钽铬合金薄膜的性能影响。利用扫描电镜/能谱仪和X射线衍射仪分析不同功率（80 W-～120 W）条件下钽铬合金薄膜的沉积速率和物相组成，通过纳米压痕仪和电化学工作站测试薄膜的力学性能和耐腐蚀性能。（剩余6387字）

试读结束

目录
monitor