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摘 要：选用五氧化二钒、三氧化钨、二氧化钛粉末和过氧化氢溶液为原料，采用溶胶-凝胶法和后退火工艺在氟掺杂氧化锡导电玻璃基底上制备了三氧化钨和二氧化钛共掺五氧化二钒复合薄膜。通过场发射扫描电子显微镜、X射线衍射仪和X射线光电子能谱仪等表征了最佳配比下复合薄膜的表面形貌、结构和化学组成，利用分光光度计等测试手段分析了复合薄膜的光电特性。（剩余17770字）
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WO3和TiO2共掺 V 2O5复合薄膜的制备及其光电特性
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