ITO靶材制备的发展及现状

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【摘 要】ITO靶材通常用于制作透明导电薄膜，是半导体光伏、LCD/OLED显示器等领域不可或缺的原材料。文章综合评述了ITO靶材制备技术现状，介绍了其常规制备方法，如ITO纳米粉体制备、成型技术、烧结技术、靶材绑定焊接技术等ITO靶材制备工艺，并分析了各工艺的优点和缺点，提出了高品质ITO靶材制备技术的研究方向。（剩余5915字）

试读结束

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