薄微晶柔光砖及其制备方法

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摘 要： 本文阐述了一种制作薄微晶柔光砖的技术和过程。先坯体成型并在其表面涂抹一层底釉，然后在底釉上喷墨印花，接着在150℃的环境下干燥后，在喷墨印花的一面空网印一层保护釉，接着，在保护釉的表面涂上一层透明釉，并在其上覆盖一层透明的细熔块，最后涂上一层保护胶水，通过高温烧制，即可得到半成品；最后，在抛光线上打超洁亮最终得到光泽度为25－35度的薄微晶柔光砖。（剩余4085字）

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