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本发明涉及瓷砖技术领域,尤其涉及一种局部透光大理石瓷砖及其制备工艺。该制备工艺包括如下步骤:S1.按预设纹理,通过布料设备对坯体粉料进行布料,得到坯体层;坯体层的预设纹理包括透光区和不透光区;S2.在坯体层上喷墨打印预设图案,再施加透明保护釉;预设图案和预设纹理一一对应;S3.烧制后,即得到局部透光大理石瓷砖。(剩余1701字)
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新型陶瓷球在立式搅拌磨上的应用
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