大印学（3）——“篆刻学”学科建设与发展研讨会圆满落幕

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11月3日至4日，西泠印社甲辰秋季雅集系列活动之大印学（3）——“篆刻学”学科建设与发展研讨会在杭举行。本次研讨会，是西泠印社继春季雅集期间举办纪念吴昌硕诞辰180周年学术报告会后，今年举办的又一场大型学术会议。研讨会期间，众多专家学者聚焦“篆刻学”学科建设与发展，围绕五个专题，从不同角度和层面，进行深入的分析和探讨。（剩余333字）

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