超纳米金刚石薄膜的快速生长及结构分析

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摘要 采用微波等离子体化学气相沉积（microwave plasma chemical vapor deposition， MPCVD）技术，通过调节微波功率制备不同温度条件下的超纳米金刚石（ultrananocrystalline diamond，UNCD）薄膜。比较分析反应源激活功率及基体温度对UNCD 膜生长和组成结构的影响，以期获得高质量UNCD 膜材的快速生长工艺技术。（剩余5608字）

试读结束

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