Cu2+离子印迹复合膜的制备及性能研究

打开文本图片集
摘要:以商品化的离子交换膜为研究对象,通过离子印迹技术将模板离子Cu2+印迹到离子膜表面,再经过环氧氯丙烷交联、HCl洗脱后,在外界电场的推动下制备得到Cu2+离子印迹复合膜。结果显示,随着PEI溶液浓度的增加、电沉积时间的增长、电流的增大,膜上沉积的PEI量呈线性上升趋势;膜表面PEI沉积量增多,改性印迹膜对Cu2+的通量增加,Cu/Zn选择性降低,当PEI浓度为5 g/L时,Cu/Zn逐渐趋于平衡;在0.03 mol/L的铜锌混合液中,对比印迹膜和非印迹膜对Cu2+的选择透过性,印迹膜Cu/Zn为1.787,其选择性好于非印迹膜。(剩余5692字)